开放式集成电路工艺研发平台
开放式集成电路工艺研发平台
研发中心拥有一个独立完整的开放式集成电路工艺研发平台,包括一个4500平方米的12英寸工艺线标准洁净厂房,其中洁净室使用面积3000平方米,洁净室支持区面积1500平方米,可装备一条12寸工艺研发线,开展单项工艺、模块工艺研发。目前已建成12英寸铜互连工艺和部分前道工艺的12英寸工艺。该研发平台可向所有的半导体生产厂商、设备及材料供应商和半导体研究机构开放,并根据具体的双边或多边协议,共同进行工艺技术研发。
12英寸引导线净化间
开放式集成电路工艺研发平台
研发中心拥有一个独立完整的开放式集成电路工艺研发平台,包括一个4500平方米的12英寸工艺线标准洁净厂房,其中洁净室使用面积3000平方米,洁净室支持区面积1500平方米,可装备一条12寸工艺研发线,开展单项工艺、模块工艺研发。目前已建成12英寸铜互连工艺和部分前道工艺的12英寸工艺。该研发平台可向所有的半导体生产厂商、设备及材料供应商和半导体研究机构开放,并根据具体的双边或多边协议,共同进行工艺技术研发。
12英寸引导线净化间